10月2日(金)乾燥プロセス展@幕張メッセ パネルディスカッションに登壇します！
nezz-lab株式会社熱ラボの代表 工藤が、RX Japan主催 次世代乾燥プロセス展-ドライテック-で開かれるパネルディスカッション「徹底討論・乾燥の壁をどう越えるか 〜異分野に学ぶ、次世代の乾燥ソリューション〜」にモデレーターとして登壇します。
以下URLより受講申し込みができます。ふるってご参加下さい。（URL内セミナープログラムで"ドライテック"を選択すると、すぐに探し出せます。）
http://biz.q-pass.jp 
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